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2018/09/14
咨詢成果
發(fā)布成果基本信息
- 成果類型 高等院校
- 委托機(jī)構(gòu) 西安電子科技大學(xué)
- 成果持有方 西安電子科技大學(xué)
- 行業(yè)領(lǐng)域 先進(jìn)制造技術(shù)
- 項(xiàng)目名稱 基于隨機(jī)散射介質(zhì)的可控亞波長無掩模光刻系統(tǒng)和方法
- 知識產(chǎn)權(quán) 發(fā)明專利
- 項(xiàng)目簡介 本發(fā)明提出了一種基于隨機(jī)散射介質(zhì)的可控亞波長無掩模光刻系統(tǒng)和方法，解決了光刻技術(shù)中成本高、時(shí)間效率低及分辨率低的技術(shù)問題。本發(fā)明利用空間光調(diào)制器Ⅰ生成目標(biāo)圖形，光波經(jīng)空間光調(diào)制器Ⅰ后入射到隨機(jī)散射介質(zhì)表面，隨機(jī)散射介質(zhì)對光進(jìn)行隨機(jī)編碼，再利用空間光調(diào)制器Ⅱ?qū)﹄S機(jī)散射介質(zhì)產(chǎn)生的相位畸變進(jìn)行補(bǔ)償，最終實(shí)現(xiàn)透過散射介質(zhì)的亞波長成像，形成任意可控亞波長“數(shù)字掩模”，進(jìn)行投影曝光。本發(fā)明避免了掩模版的制作，極大地降低了光刻成本，利用隨機(jī)散射介質(zhì)的隨機(jī)編碼與空間光調(diào)制器的相位補(bǔ)償相結(jié)合，提高了光刻分辨率，其中相位標(biāo)定過程僅需一次，提高了光刻時(shí)間效率，從而實(shí)現(xiàn)了可控亞波長圖形的無掩模光刻。
交易信息
- 意向交易額 面議
- 掛牌時(shí)間 2019/09/14
- 委托機(jī)構(gòu) 西安電子科技大學(xué)
- 聯(lián)系人姓名 王小剛
- 聯(lián)系人電話 15802954800
- 聯(lián)系人郵箱 745490733@qq.com
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