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一種低導(dǎo)通電阻的SiC IGBT及其制備方法

5122018/08/09
基本信息
  • 成果類型 高等院校
  • 委托機構(gòu) 西安電子科技大學(xué)
  • 成果持有方 西安電子科技大學(xué)
  • 行業(yè)領(lǐng)域 電子元器件
  • 項目名稱 一種低導(dǎo)通電阻的SiC IGBT及其制備方法
  • 知識產(chǎn)權(quán) 發(fā)明專利
  • 項目簡介 本發(fā)明實施例提供了一種低導(dǎo)通電阻的SiC IGBT及其制備方法,涉及高壓功率半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域,可以提高漂移區(qū)電導(dǎo),可以降低器件的導(dǎo)通壓降和導(dǎo)通電阻,從而減小正向?qū)ü?。所述碳化硅絕緣柵雙極型晶體管包括:P+襯底(1),N+緩沖層(2),N?漂移區(qū)(3),N+空穴阻擋層(4),N+空穴阻擋層(5),P阱區(qū)(6),P+歐姆接觸區(qū)(7),N+源區(qū)(8),SiO2柵氧化層(9),柵極(10),發(fā)射極(11),集電極(12),P阱區(qū)(6)與N?漂移區(qū)(3)之間設(shè)置有橫向N+空穴阻擋層(4)和縱向N+空穴阻擋層(5),P阱區(qū)(6)和N+空穴阻擋層(4)和(5)均為恒定摻雜。
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交易信息
  • 意向交易額 面議
  • 掛牌時間 2018/03/27
  • 委托機構(gòu) 西安電子科技大學(xué)
  • 聯(lián)系人姓名 王小剛
  • 聯(lián)系人電話 15802954800
  • 聯(lián)系人郵箱 745490733@qq.com
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